欧亿体育由一支经验丰富的管理团队领导,该团队拥有丰富的管理和行业经验。尤其是,欧亿体育的主席、执行董事、行政总裁兼创始人张汉泉先生在中国营运商城方面拥有逾15年的经验,其本人自二零一三年六月起一直担任CHSA主席,且彼为中国酒店用品行业的开拓者及领导者。欧亿体育管理团队拥有多年的经验,已在业内积累了丰富的经验和知识,并为本集团独特的商业模式作出贡献。

Post-CMP清洗设备

应用于硅片和碳化硅衬底制造

盛美上海的Post-CMP设备用于制造高质量衬底化学机械研磨(CMP)工艺之后的清洗,有湿进干出(WIDO)和干进干出(DIDO)两种配置。该清洗设备6英寸和8英寸的配置适用于碳化硅(SiC)衬底制造;8英寸和12英寸配置适用于硅片制造。

欧亿体育由一支经验丰富的管理团队领导,该团队拥有丰富的管理和行业经验。尤其是,欧亿体育的主席、执行董事、行政总裁兼创始人张汉泉先生在中国营运商城方面拥有逾15年的经验,其本人自二零一三年六月起一直担任CHSA主席,且彼为中国酒店用品行业的开拓者及领导者。欧亿体育管理团队拥有多年的经验,已在业内积累了丰富的经验和知识,并为本集团独特的商业模式作出贡献。

主要优势

在CMP步骤之后,需要在低温下使用稀释的化学品进行物理预清洗工艺,以减少颗粒数量。盛美上海的Post-CMP清洗设备能够满足这些要求,并提供多种配置,包括盛美上海自主研发的 Smart Megasonix先进清洗技术。
 


特性和规格(Ultra C WPN(WIDO))

在线预清洗设备:
    可实现37纳米以下少于15个剩余颗粒或28纳米以下
    20-25个剩余颗粒
    金属污染可控制在1E+8(原子/平方厘米)以内
    当配置4个腔体的时候,产能可达每小时35片晶圆

 

离线预清洗设备:
    可实现37纳米以下少于15个剩余颗粒或28纳米以下
    20-25个剩余颗粒
    占地面积小




特性和规格(Ultra C WPN(DIDO))

可配置四个装载端口

占地面积小

可配置四或六个腔体,分别为两个软刷和两个清洗腔体或两个软刷和四个清洗腔体

可实现37纳米以下少于15个剩余颗粒或28纳米以下20-25个剩余颗粒

最高产能可达每小时60片晶圆

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